Manuseamento de bolachas. Câmaras de vácuo. Segundo nível da ASML.
Fabrico CNC para equipamento de produção de semicondutores. Cadeia de fornecimento de segundo e terceiro nível para a ASML, a Applied Materials, a Lam Research e a Tokyo Electron. Componentes de câmara de vácuo, ferragens de manuseamento de bolachas, suportes óticos de litografia e mesas de precisão. Limpeza para vácuo ultraelevado, segurança contra descargas eletrostáticas e precisão em Invar 36.
Setor de semicondutores
Cada equipamento de semicondutores exige coisas diferentes a quem o fabrica. Na litografia manda a precisão; no ataque, a resistência química; na deposição, a limpeza.
Categorias de equipamento para fábricas de semicondutores.
Ferragens de litografia
Componentes de steppers e scanners de fotolitografia. Mesas de precisão, suportes óticos e manuseamento de retículas. Tolerância abaixo do micrómetro.
Manuseamento de bolachas
Ferragens de transporte de bolachas: efetores finais e componentes de braço robótico. Exigem materiais seguros contra a estática.
Câmaras de vácuo
Corpos de câmara de deposição e de ataque. Interior eletropolido, flanges CF nas ligações e ensaio de fuga com hélio.
Interiores de câmara de processo
Cabeças de chuveiro, mobiliário de câmara e ferragens especiais de processo. De alta pureza e com controlo de partículas.
Equipamento de polimento mecânico-químico
Ferragens para equipamento de polimento mecânico-químico. Materiais que resistem à suspensão abrasiva.
Ferragens de pontas de prova
Componentes de estações de prova e ferragens de cartões de pontas. Baixa dilatação térmica para que a medição não fuja.
Ferragens para implantação iónica
Componentes de implantador iónico, ferragens da linha de feixe e da fonte.
Mesas de precisão
Mesas XY de ultraprecisão e posicionadores piezoelétricos. Posicionamento abaixo do nanómetro.
Ótica eletrónica
Componentes para microscópios eletrónicos e litografia por feixe de eletrões. Com os cuidados devidos de blindagem magnética.
Cada equipamento de semicondutores exige coisas diferentes a quem o fabrica. Na litografia manda a precisão; no ataque, a resistência química; na deposição, a limpeza.
Clientes de semicondutores que servimos.
Cadeia de fornecimento da ASML
Litografia da ASML, segundo e terceiro nível: suportes óticos, ferragens de precisão e componentes de mesa
Applied Materials
Applied Materials, segundo e terceiro nível: componentes de equipamentos de deposição e de ataque
Lam Research
Cadeia de fornecimento de equipamentos de ataque da Lam Research
Tokyo Electron
Componentes para equipamento da Tokyo Electron
Inspeção da KLA
Componentes para equipamento de inspeção da KLA-Tencor
Fábricas de semicondutores
Apoio direto à infraestrutura das fábricas (TSMC, Samsung, Intel Foundries)
Semicondutores na China
SMIC, YMTC e Hua Hong: a cadeia chinesa de equipamentos de semicondutores
Startups de equipamento para fábricas de semicondutores
Apoio à cadeia de fornecimento de startups de equipamento de semicondutores
Instituições de investigação
Universidades e laboratórios com investigação em semicondutores
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Manuseamento de bolachas — perguntas
Que exigências de limpeza há nos semicondutores?
As peças de semicondutores têm de estar extremamente limpas: contam as partículas, a contaminação iónica e a libertação de gases. O nosso fluxo é este: zona de maquinação dedicada, sem contaminação cruzada; limpeza por ultrassons em várias etapas, com água desionizada, álcool isopropílico e soluções próprias; embalagem em ambiente limpo de classe 1000 / ISO 6; e entrega em saco duplo. Nas peças críticas documentamos a contagem de partículas de cada uma.
Trabalham com materiais seguros contra descargas eletrostáticas?
Manusear semicondutores exige materiais seguros contra descargas eletrostáticas, para que a estática não danifique dispositivos tão delicados. Os correntes: PEEK-CF30, que é PEEK carregado com carbono e resistência superficial de 10^4 a 10^6 ohm; Delrin condutor; e certos plásticos maquináveis antiestáticos. Trabalhamo-los numa zona dedicada e protegida contra a estática, com a certificação do material documentada.
Porque importa a baixa libertação de gases?
As câmaras de vácuo exigem componentes que quase não libertem gases: os que ficam presos saem devagar e contaminam o processo. É crítico onde se procura pureza ao nível da camada atómica. Os materiais: 316L eletropolido, Vespel SP-1, cobre OFE e certas cerâmicas qualificadas para vácuo ultraelevado. O processo: limpeza a fundo e cozedura em vácuo a temperatura elevada para expulsar resíduos. As nossas peças cumprem uma libertação total abaixo de 10^-10 mbar·L/s.
Que tolerâncias exige o setor dos semicondutores?
O equipamento de semicondutores leva a precisão ao limite. O corrente: cotas de mesa de litografia a ±0,005 mm e referências de suporte ótico a ±0,002 mm, contra os ±0,01 a 0,025 mm da indústria comum. Verificamos as cotas críticas em máquina de medição com compensação de temperatura e, para as que descem abaixo do micrómetro, recorremos a medição interferométrica em laboratórios parceiros.
Há materiais próprios do setor dos semicondutores?
Os materiais correntes do setor: 316L para a estrutura da câmara; Invar 36 para mesas de precisão, pela sua mínima deriva térmica; compósito de molibdénio e cobre para gestão térmica, porque a sua dilatação acompanha a do silício; PEEK-CF30 para manusear bolachas sem risco eletrostático; alumínio 6061 para uso geral; e cerâmicas especiais como a alumina e o carboneto de silício, através de parceiros. A escolha é ditada pela aplicação concreta: química, temperatura, vácuo e exigências de limpeza.
Que prazos são habituais num programa de semicondutores?
Os programas de semicondutores planeiam-se com doze a vinte e quatro semanas de antecedência. Conseguir ligas especiais leva quatro a seis semanas; a maquinação, quatro a oito em trabalhos complexos; os ensaios de qualificação e a documentação, duas a seis. Em produção, as entregas são mensais contra uma encomenda em aberto. Com os fabricantes de equipamento — ASML, Applied Materials — a relação de fornecimento dura anos, com encomendas regulares.
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